光的干涉在薄膜光学中广泛应用。光学薄膜技术的普遍方法是借助真空溅射的方式在玻璃基板上涂镀薄膜,一般用来控制基板对入射光束的∑反射率和透过率,以满足不同的需←要。为了消...
光学薄膜在高真空度的镀膜㊣ 腔中实现
光学薄膜在高真空度的镀膜腔∏中实现。常规镀膜工艺要求升高基底温度(通常约为300℃);而较〓先进的技术,如ζ 离子辅助沉积(IAD)可在室温下进行。IAD工艺不但生产比常规镀膜◇工艺具有更好...
真空镀膜材料与湿式镀膜材料的区别
真空镀膜材料技术与湿式镀膜材料▅技术相比具有明显优点: 1、膜材和基体选材广泛①,膜的厚度可以进行控制以制备具有各种不同功能的功能性薄膜。 2、真空条件下制备薄膜,环境清洁...